日本OTSUKA玉崎科學(xué)供應(yīng)的大冢(Otsuka)光學(xué)膜厚量測(cè)儀(例如FE-300型號(hào))主要基于光學(xué)干涉原理進(jìn)行工作。它能實(shí)現(xiàn)非接觸、無(wú)損的高精度薄膜厚度測(cè)量。
為了更全面地了解它的工作原理和特點(diǎn),可以參考下表:
特性維度 | 具體說(shuō)明 | 備注/典型型號(hào)示例 |
---|---|---|
工作原理 | 利用光學(xué)干涉效應(yīng)。照射到薄膜表面的光會(huì)在薄膜上下界面分別反射,兩束反射光因存在光程差而發(fā)生干涉。儀器分析由此產(chǎn)生的干涉光譜來(lái)推算膜厚。 | FE-300等 |
核心組件 | - 光源:提供寬波長(zhǎng)范圍的測(cè)量光(如鹵素?zé)簦?br/>- 高精度分光光度計(jì):捕獲反射光譜。 - 數(shù)據(jù)處理系統(tǒng):內(nèi)置算法模型分析光譜數(shù)據(jù),計(jì)算膜厚及光學(xué)常數(shù)。 | FE-300等 |
關(guān)鍵技術(shù)特點(diǎn) | - 非接觸與非破壞性:不損傷樣品。 - 高速測(cè)量:測(cè)量時(shí)間通常在0.1-10秒內(nèi)。 - 高精度:可測(cè)量納米級(jí)至微米級(jí)的膜厚(例如FE-300薄膜型測(cè)量范圍約3nm-35μm)。 - 多層膜分析:支持最多10層膜厚的分析。 - 光學(xué)常數(shù)分析:可同時(shí)計(jì)算折射率 (n) 和消光系數(shù) (k)。 | FE-300等 |
分析方法 | 儀器軟件通常集成多種分析算法: - 峰谷法 (Peak-Valley) - 頻率分析法 (Fourier Transform) - 非線性最小二乘法 (Non-Linear Least Squares) - 優(yōu)化法 (Optimization) | 用戶可根據(jù)樣品特性選擇或組合使用 |
應(yīng)用范圍 | 適用于多種薄膜材料: - 功能膜、塑料:如PET、PC、PP、PE、PVA、保護(hù)膜、硬涂層等。 - 透明導(dǎo)電膜:如ITO(氧化銦錫)、銀納米線等。 - 半導(dǎo)體領(lǐng)域:如晶圓上的氧化膜、氮化膜、光刻膠、化合物半導(dǎo)體(SiC, GaAs, GaN等)膜厚測(cè)量。 - 光學(xué)材料:如濾光片、增透膜(AR膜)。 - 表面處理:如DLC涂層(類金剛石碳膜)、防銹劑、防霧劑等。 - 平板顯示(FPD):如LCD中的彩色濾光片(CF)、ITO電極、取向?qū)?PI);OLED中的有機(jī)發(fā)光層、封裝薄膜等。 | FE-300等 |
?? 如何選擇?
大冢(Otsuka)電子還生產(chǎn)其他系列的膜厚測(cè)量?jī)x,例如OPTM系列和GS-300。這些儀器可能在某些方面存在差異:
OPTM系列:更像是實(shí)驗(yàn)室或集成在線監(jiān)測(cè)的解決方案。它提供了更寬的波長(zhǎng)范圍選擇(例如從深紫外到近紅外),并且最小測(cè)量光斑可以非常?。s3μm-20μm),適合微區(qū)精密測(cè)量(如半導(dǎo)體芯片上的微小結(jié)構(gòu))。
GS-300:則專門用于晶圓厚度和線上膜厚的測(cè)量解析。
如果您需要為研發(fā)或質(zhì)量控制選擇一臺(tái)膜厚儀,需要考慮以下幾點(diǎn):
膜厚范圍:您需要測(cè)量的薄膜厚度大致在什么范圍?
測(cè)量精度:您對(duì)測(cè)量結(jié)果的精確度要求有多高?
樣品類型:您的樣品是單層膜還是多層復(fù)合膜?是否需要同時(shí)測(cè)量光學(xué)常數(shù)(n, k)?
測(cè)量區(qū)域:您的樣品待測(cè)區(qū)域大小如何?是否需要非常小的光斑進(jìn)行微區(qū)測(cè)量?
預(yù)算與功能:您的預(yù)算范圍是多少?是需要臺(tái)式機(jī)、便攜式還是在線集成式?
?? 總結(jié)
大冢(Otsuka)光學(xué)膜厚量測(cè)儀通過(guò)分析光在薄膜上下表面反射產(chǎn)生的干涉效應(yīng),運(yùn)用精密的光學(xué)系統(tǒng)和強(qiáng)大的算法軟件,實(shí)現(xiàn)了對(duì)多種薄膜厚度和光學(xué)常數(shù)的高精度、無(wú)損、快速測(cè)量。
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