
MIRUC米拉克的XY軸驅(qū)動(dòng)平臺(tái)通過(guò)精密的機(jī)械結(jié)構(gòu)(如齒條-小齒輪和燕尾榫)實(shí)現(xiàn)平滑移動(dòng),利用抗振動(dòng)設(shè)計(jì)保持穩(wěn)定,并通過(guò)可選的光電編碼器或線性編碼器實(shí)現(xiàn)閉環(huán)控制,從而達(dá)成微米甚至納米級(jí)的高精度定位。、
MIRUC米拉克光學(xué)XY軸驅(qū)動(dòng)平臺(tái)的高精度源于其幾個(gè)核心組件和技術(shù)的協(xié)同工作:
憑借其高精度和穩(wěn)定性,MIRUC米拉克XY軸驅(qū)動(dòng)平臺(tái)廣泛應(yīng)用于:
光學(xué)檢測(cè)與半導(dǎo)體:在PCB曝光機(jī)、晶圓切割設(shè)備中執(zhí)行微米級(jí)對(duì)位。
自動(dòng)化集成:通過(guò)電機(jī)驅(qū)動(dòng)模組(如步進(jìn)電機(jī)或線性磁軸電機(jī))升級(jí)為電動(dòng)平臺(tái),支持高速掃描(最高200mm/s)。
MIRUC日本米拉克光學(xué)XY軸驅(qū)動(dòng)平臺(tái)的工作原理,是其精密機(jī)械設(shè)計(jì)、高質(zhì)量材料、抗振技術(shù)以及可選閉環(huán)控制共同作用的結(jié)果。其優(yōu)勢(shì)在于極低的動(dòng)態(tài)偏差(如雙向重復(fù)性±0.5μm)和模塊化擴(kuò)展能力。
在選擇和使用這類(lèi)平臺(tái)時(shí),有幾點(diǎn)需要注意:
精度與負(fù)載:平臺(tái)的移動(dòng)精度(如直線度)和承載負(fù)載(kgf)是關(guān)鍵參數(shù),需根據(jù)實(shí)際應(yīng)用選擇合適型號(hào)。
手動(dòng)與自動(dòng):手動(dòng)型號(hào)依賴操作者手感,如需更高自動(dòng)化,可結(jié)合電機(jī)驅(qū)動(dòng)模組實(shí)現(xiàn)納米級(jí)閉環(huán)控制。
環(huán)境因素:雖然平臺(tái)具有抗振動(dòng)設(shè)計(jì),但外部強(qiáng)烈的振動(dòng)或溫度波動(dòng)仍可能影響精度,應(yīng)在穩(wěn)定的環(huán)境中使用。
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