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晶圓良率的隱形守護(hù)者:解析HORIBA堀場(chǎng)HF-960M低濃度HF/HCl濃度監(jiān)測(cè)儀

更新時(shí)間:2026-01-20      點(diǎn)擊次數(shù):20

在現(xiàn)代半導(dǎo)體制造的微觀世界里,一顆比塵埃還微小的雜質(zhì)、一個(gè)納米級(jí)的工藝偏差,都可能導(dǎo)致價(jià)值不菲的整片晶圓報(bào)廢。在眾多嚴(yán)苛的工藝環(huán)節(jié)中,濕法清洗是貫穿始終的基礎(chǔ)步驟,其藥液濃度的精確性直接決定了芯片的可靠性與良率。隨著半導(dǎo)體器件特征尺寸不斷微縮,對(duì)清洗化學(xué)品——尤其是(HF)、鹽酸(HCl)等——的濃度控制要求,已從百分比級(jí)別進(jìn)入了百萬(wàn)分比(ppm)級(jí)別的超精密范疇。

在此背景下,HORIBA(堀場(chǎng))集團(tuán)推出的HF-960M低濃度型HF/HCl/NH?濃度監(jiān)測(cè)儀,憑借其針對(duì)低濃度測(cè)量?jī)?yōu)化的耐腐蝕傳感器高度集成化的設(shè)計(jì),成為了確保制程清洗工藝穩(wěn)定性的關(guān)鍵工具。

一、核心使命:應(yīng)對(duì)制程的低濃度控制挑戰(zhàn)

傳統(tǒng)的光學(xué)或滴定法濃度測(cè)量在應(yīng)對(duì)半導(dǎo)體級(jí)超純、低濃度化學(xué)液時(shí),往往面臨響應(yīng)慢、維護(hù)繁瑣或精度不足的瓶頸。HF-960M的設(shè)計(jì)理念直擊痛點(diǎn):它專為滿足單晶圓清洗(Single Wafer Cleaning) 和RCA清洗等工藝中對(duì)HF、HCl、氨水(NH?)的低濃度、高精度、實(shí)時(shí)在線監(jiān)測(cè)需求而生。

其核心價(jià)值在于,能夠在生產(chǎn)線旁持續(xù)、穩(wěn)定地監(jiān)測(cè)濃度低至ppm級(jí)別的化學(xué)液,確保每一片晶圓都在一致的理想化學(xué)環(huán)境中被處理,從而提升工藝的重復(fù)性與產(chǎn)品良率。

二、技術(shù)基石:電導(dǎo)率法與耐腐蝕傳感器的融合

HF-960M實(shí)現(xiàn)高精度測(cè)量的基石,在于其基于電導(dǎo)率測(cè)量的濃度轉(zhuǎn)換算法及其關(guān)鍵部件的耐腐蝕性

1. 測(cè)量原理:溫度補(bǔ)償型電導(dǎo)率法
設(shè)備并非直接測(cè)量化學(xué)物質(zhì)的分子數(shù)量,而是通過(guò)測(cè)量溶液的電導(dǎo)率(范圍0-50.0 mS/cm),再結(jié)合高精度的溫度傳感(Pt1000溫度補(bǔ)償元件),根據(jù)預(yù)設(shè)的、對(duì)應(yīng)特定化學(xué)品的“電導(dǎo)率-濃度-溫度"關(guān)系模型,實(shí)時(shí)計(jì)算出目標(biāo)物質(zhì)的濃度值。這種方法避免了復(fù)雜的光路系統(tǒng),特別適合在線、實(shí)時(shí)的工業(yè)過(guò)程控制,具有響應(yīng)速度快、穩(wěn)定性高的優(yōu)點(diǎn)。

2. 心臟部件:FS-10F系列流通式傳感器
化學(xué)液的強(qiáng)腐蝕性是所有監(jiān)測(cè)設(shè)備面臨的嚴(yán)峻考驗(yàn)。HF-960M配備的FS-10F系列傳感器,其接液部分采用了玻璃碳(Glassy Carbon)、PFA(全氟烷氧基樹脂)以及Kalrez®等全氟醚橡膠等耐腐蝕材料。這些材料能長(zhǎng)時(shí)間耐受HF、HCl等強(qiáng)酸的侵蝕,從根本上保證了傳感器核心電極的長(zhǎng)期穩(wěn)定性和測(cè)量準(zhǔn)確性,顯著降低了因傳感器腐蝕導(dǎo)致的維護(hù)頻率和成本。

三、性能解析:為工業(yè)集成而生的精密儀器

HF-960M不僅僅是一個(gè)傳感器,更是一個(gè)完整的、便于集成到自動(dòng)化生產(chǎn)線中的監(jiān)測(cè)系統(tǒng)。

1. 多功能與高精度

2. 緊湊設(shè)計(jì)與強(qiáng)大輸出

3. 可靠性與環(huán)保

四、核心應(yīng)用場(chǎng)景:賦能精密制造

HF-960M主要服務(wù)于對(duì)化學(xué)環(huán)境控制要求高的制造業(yè),其典型應(yīng)用場(chǎng)景如下表所示:

應(yīng)用領(lǐng)域具體工藝監(jiān)測(cè)對(duì)象與作用
半導(dǎo)體制造RCA標(biāo)準(zhǔn)清洗精確監(jiān)控SC-1(氨水/雙氧水混合液)中的NH?濃度,以及SC-2(鹽酸/雙氧水混合液)中的HCl濃度,確保硅片表面清洗效果一致。

單晶圓清洗實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)稀釋(DHF)槽中的HF濃度,控制對(duì)氧化硅層的刻蝕速率與均勻性,是邏輯芯片和存儲(chǔ)芯片制造中的關(guān)鍵控制點(diǎn)。

晶圓背面清洗監(jiān)測(cè)低濃度HF/HCl,用于去除背面污染物和不必要的氧化層。
平板顯示器制造玻璃基板清洗在陣列(Array)或彩膜(CF)制程前,監(jiān)測(cè)清洗液中的酸堿濃度,確?;迩鍧嵍?。
太陽(yáng)能光伏硅片制絨與清洗監(jiān)測(cè)制絨(紋理化)酸液(如HF/HNO?混合液)或清洗液中的HF濃度,優(yōu)化絨面結(jié)構(gòu)和表面鈍化效果。
精密化工高純化學(xué)品生產(chǎn)在線監(jiān)測(cè)高純鹽酸等產(chǎn)品中的主體成分或雜質(zhì)含量,進(jìn)行質(zhì)量管控。

五、總結(jié):的工藝控制之眼

在半導(dǎo)體技術(shù)向著3納米、2納米及更小節(jié)點(diǎn)邁進(jìn)的道路上,工藝窗口日益狹窄,對(duì)每一個(gè)變量的控制都必須做到。HORIBA HF-960M低濃度濃度監(jiān)測(cè)儀,正是濕法清洗這一基礎(chǔ)環(huán)節(jié)中,實(shí)現(xiàn)“測(cè)得準(zhǔn)、控得穩(wěn)" 的基石。

它化身為生產(chǎn)線的“化學(xué)感官",將不可見的離子濃度轉(zhuǎn)化為穩(wěn)定可靠的數(shù)字信號(hào),讓工程師能夠以的精度洞察并調(diào)控工藝狀態(tài)。通過(guò)其耐腐蝕的硬件設(shè)計(jì)、精密的算法補(bǔ)償和強(qiáng)大的工業(yè)互聯(lián)能力,HF-960M不僅守護(hù)著每一片晶圓的潔凈,更守護(hù)著現(xiàn)代電子信息產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新與發(fā)展的基石。在追求更高良率、更優(yōu)性能的產(chǎn)業(yè)競(jìng)賽中,此類高可靠性的過(guò)程監(jiān)控工具,已成為制造商的戰(zhàn)略性資產(chǎn)。


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